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  • 产品名称: VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪
  • 上架时间: 2017-09-12
  • 产品编号: 03050104
  • 浏览次数: 340

产品简介:VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪配置三个靶枪,一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,两个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备,特别适用于实验室研究固态电解质及OLED

 

名称

VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪

产品型号

VTC-600-3HD

安装条件

本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水:设备配有自循环冷却水机(加注纯净水或者去离子水)

2、电:AC220V 50Hz,必须有良好接地

3、气:设备腔室内需注氩气(纯度99.99%以上),需自备氩气气瓶(自带Ø6mm双卡套

       接头)及减压阀

4、工作台:尺寸1500mm×600mm×700mm承重200kg以上

5、通风装置:需要

主要特点

1配置三个靶枪,一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,两个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜(靶枪可以根据客户需要任何调换)。

2可制备多种薄膜,应用广泛。

3体积小,操作简便。

4、整机模块化设计,真空腔室、真空泵组、控制电源分体式设计,可根据用户实际需要调整。

5根据用户实际需要选择电源,可以一个电源控制多个靶枪,也可多个电源单一控制靶枪。

技术参数

1、电源电压:220V  50Hz

2、总功率:2.5KW

3、极限真空度:< E-6mbar(配合本公司设备使用可达到 E-5mbar

4、工作温度:RT-500℃,精度±1℃(可根据实际需要提升温度)

5、靶枪数量:3

6、靶枪冷却方式:水冷

7靶材尺寸:Ø2,厚度0.1mm-5mm(因靶材材质不同厚度有所不同)

8、直流溅射功率:500W(可选)

9、射频溅射功率:300W/500W(可选)

10、载样台:Ø140mm

11、载样台转速:1rpm-20rpm内可调

12、保护气体:ArN2等惰性气体

13、进气气路:质量流量计控制2路进气,1流量为100 SCCM1流量为200 SCCM

产品规格

主机尺寸:500mm×560mm×660mm整机尺寸:1300mm×660mm×1200mm;重量:160kg

标准配件

1

直流电源控制系统

2

2

射频电源控制系统

1

3

膜厚监测仪系统

1

4

分子泵(德国进口)

1

5

冷水机

1

6

冷却水管(Ø6mm

4

可选配件

金、铟、银、等各种靶材

掩膜版

振动样品台

 

 

同VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪操作指导

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